Получение пленок равномерной толщины

Получение пленок равномерной толщины

Однако если величина этого заряда достигнет нескольких киловольт относительно корпуса установки, то могут возникнуть пробои на расположенные около пленки заземленные детали, результатом чего может быть выжигание краев пленки. Получение пленок равномерной толщины. Освоение массового производства ИС (а следовательно, и их тонкопленочных Элементов) потребовало создания высокопроизводительных Установок для одновременного (группового) осаждения тонких пленок на большую площадь подложек с требуемой равномерностью по толщине. Наибольшее влияние на равномерность пленки по Толщине оказывают эмиссионные характеристики испарителей; наличие различного рода экранов и диафрагм между испарителем и подложкой, форма приемной Поверхности, на которой размещаются подложки, взаимное расположение и перемещение испарителя и подложек во время процесса осаждения.

Сопоставление приведенных в табл 3 параметров показывает, что при использовании неподвижного плоского подложкодержателя можно наносить равномерные пленки только на подложки малых размеро1В (при h= =200 мм, г=50 мм).

1 Star2 Stars3 Stars4 Stars5 Stars (No Ratings Yet)
Загрузка ... Загрузка ...

One comment to Получение пленок равномерной толщины

  • Жантуар Зуев  says:

    Всех с наступающим нг!

Оставьте ответ

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите человечка с поднятой рукой: