Перемещение фотошаблона над слоем фоторезиста

Перемещение фотошаблона над слоем фоторезиста

Мельчайшая пылинка передается в масштабе 1:1, что может вызвать искажение изображения в слое фоторезиста. Кроме того, значительные трудности возникают при операции совмещения последующих фотошаблонов, входящих в комплект, с уже полученными структурами. Эта операция выполняется с помощью специальных микроскопов в плоскости либо фотошаблона, либо поверхности пластины, причем оба изображения должны иметь высокую четкость. Перемещение фотошаблона над слоем Фоторезиста проводится до тех пор, пока не совпадут их метки совмещения. Чтобы перемещать фотошаблон, необходимо иметь зазор между ним и поверхностью пластины.

Чтобы перемещать фотошаблон, необходимо иметь зазор между ним и поверхностью пластины. Однако величина этого зазора не должна превышать глубину резкости микроскопа, которая при большом увеличении составляет 10—20 мкм. При большем зазоре наблюдать одновременно обе совмещенные структуры практически невозможно. Кроме того, вследствие неплоскостности Поверхности Фотошаблона и подложки, а также перекосов и неточностей, неизбежно возникающих при механических перемещениях, фотошаблоны в процессе совмещения повреждаются.

1 Star2 Stars3 Stars4 Stars5 Stars (No Ratings Yet)
Загрузка ... Загрузка ...

One comment to Перемещение фотошаблона над слоем фоторезиста

  • Евстрат Самойлов  says:

    В этом что-то есть. Раньше я думал иначе, благодарю за информацию.

Оставьте ответ

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите человечка с поднятой рукой: