Определение местоположения создаваемых микроструктур на технологической площади

Определение местоположения создаваемых микроструктур на технологической площади

Минимальной ошибки (20% минимального размера структуры) при определении местоположения создаваемых микроструктур на технологической площади с помощью используемого для этой цели оборудования; 4) обеспечение минимальной ошибки совмещения (меньше или равно 20% минимального размера структуры) рисунков на шаблонах в комлекте и рисунков на каждом шаблоне и подложке в том случае, если метод требует применения шаблонов; 5) минимальное время, которое затрачивается на создание микроэлектронных структур на всей технологической площади; 6) отсутствие принципиальных ограничений возможности реализации предельной теоретической разрешающей способности метода. Наиболее полно перечисленным требованиям удовлетворяет электронолитография, представляющая собой комплекс технологических приемов для получения конфигурации микроэлектронных структур, в основе которого лежит использование электронных пучков. По сравнению с контактной и проекционной Фотолитографией электронолитография имеет ряд несомненных преимуществ. Во-первых, длина волны электронного пучка на несколько порядков меньше, чем для ультрафиолетового Света.

1 Star2 Stars3 Stars4 Stars5 Stars (No Ratings Yet)
Загрузка ... Загрузка ...

One comment to Определение местоположения создаваемых микроструктур на технологической площади

  • Ярополк Николаев  says:

    Подскажите, где я могу это найти?

Оставьте ответ

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите человечка с поднятой рукой: